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Robust topological edge states at the perfect surface step edge of topological insulator ZrTe$_5$

机译:稳定的拓扑边缘状态在完美的表面阶梯边缘   拓扑绝缘体ZrTe $ _5 $

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摘要

We report an atomic-scale characterization of ZrTe$_5$ by using scanningtunneling microscopy. We observe a bulk bandgap of ~80 meV with topologicaledge states at the step edge, and thus demonstrate ZrTe$_5$ is a twodimensional topological insulator. It is also found that an applied magneticfield induces energetic splitting and spatial separation of the topologicaledge states, which can be attributed to a strong link between the topologicaledge states and bulk topology. The perfect surface steps and relatively largebandgap make ZrTe$_5$ be a potential candidate for future fundamental studiesand device applications.
机译:我们报告了使用扫描隧道显微镜对ZrTe $ _5 $的原子尺度表征。我们观察到〜80 meV的体带隙,在阶跃边缘具有拓扑边缘状态,因此证明ZrTe $ _5 $是二维拓扑绝缘体。还发现,施加的磁场引起拓扑边缘状态的能量分裂和空间分离,这可以归因于拓扑边缘状态与体拓扑之间的牢固联系。完美的表面台阶和相对较大的带隙使ZrTe $ _5 $成为未来基础研究和设备应用的潜在候选者。

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